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上海結(jié)構(gòu)精修檢測(cè)分析 和諧共贏 束蘊(yùn)儀器供應(yīng)

2025-05-16 00:14:40

介孔分子篩SBA-15結(jié)構(gòu)分析引言介孔分子篩SBA-15具有大晶胞的二維六方孔狀結(jié)構(gòu),具有更大的孔徑、更厚的孔壁和更高的孔容,而且具有更好的水熱穩(wěn)定性,有利于它在溫度較高、體系中有水的反應(yīng)中應(yīng)用,因此在催化、分離、生物及納米材料等領(lǐng)域有應(yīng)用前景。SBA-15結(jié)構(gòu)特穩(wěn)定性和其孔徑大小與性能有較大關(guān)聯(lián),而XRD是表征其結(jié)構(gòu)的有效方法之一。由于SBA-15的晶胞較大,其衍射峰往往出現(xiàn)在非常低的角度,這導(dǎo)致很難從直射光和空氣散射中區(qū)分其衍射信號(hào)。目前,隨著衍射儀的發(fā)展,動(dòng)態(tài)光路對(duì)的設(shè)計(jì)很好的解決了這類(lèi)問(wèn)題。實(shí)例SBA-15小角度XRD圖譜,五個(gè)衍射峰分別對(duì)應(yīng)(100)、(110)、(200)、(300)、(220)。根據(jù)圖2示意圖,計(jì)算得到平均孔距使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像,進(jìn)行1D掃描,來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。上海結(jié)構(gòu)精修檢測(cè)分析

對(duì)分布函數(shù)(PDF)分析是一種分析技術(shù),它基于Bragg以及漫散射(“總散射”),提供無(wú)序材料的結(jié)構(gòu)信息。其中,您可以通過(guò)Bragg衍射峰,了解材料的平均晶體結(jié)構(gòu)的信息(即長(zhǎng)程有序),通過(guò)漫散射,表征其局部結(jié)構(gòu)(即短程有序)。就分析速度、數(shù)據(jù)質(zhì)量以及對(duì)非晶、弱晶型、納米晶或納米結(jié)構(gòu)材料的分析結(jié)果而言,D8ADVANCE和TOPAS軟件市面上性能好的PDF分析解決方案:相鑒定結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修納米粒度和形狀。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶(hù)還是專(zhuān)業(yè)用戶(hù),都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。上海GaN檢測(cè)分析在DIFFRAC.TEXTURE中,使用球諧函數(shù)和分量方法,生成極圖、取向分布函數(shù)(ODF)和體積定量分析。

D8DISCOVER特點(diǎn):微焦源I?S配備了MONTEL光學(xué)器件的I?S微焦源可提供小X射線(xiàn)束,非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束:高亮度和很低背景2.綠色環(huán)保設(shè)計(jì):低功耗、無(wú)耗水、使用壽命延長(zhǎng)3.MONTEL光學(xué)器件可優(yōu)化光束形狀和發(fā)散度4.與布魯克大量組件、光學(xué)器件和探測(cè)器完全兼容。5.提供各種技術(shù)前列的全集成X射線(xiàn)源,用于產(chǎn)生X射線(xiàn)。6.工業(yè)級(jí)金屬陶瓷密封管,可實(shí)現(xiàn)線(xiàn)焦斑或點(diǎn)焦斑。7.專(zhuān)業(yè)的TWIST-TUBE(旋轉(zhuǎn)光管)技術(shù),可快速簡(jiǎn)便地切換線(xiàn)焦斑和點(diǎn)焦斑。8.微焦斑X射線(xiàn)源(I?S)可提高極小焦斑面積上的X射線(xiàn)通量,而功耗卻很低。9.TURBOX射線(xiàn)源(TXS)旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極可為線(xiàn)焦斑、點(diǎn)焦斑和微焦斑等應(yīng)用提供比較高X射線(xiàn)通量。10.性液態(tài)金屬靶METALJET技術(shù),可提供無(wú)出其右的X射線(xiàn)光源亮度。11.高效TurboX射線(xiàn)源(TXS-HE)可為點(diǎn)焦斑和線(xiàn)焦斑應(yīng)用提供比較高X射線(xiàn)通量,適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線(xiàn)源結(jié)合指定使用X射線(xiàn)光學(xué)元件,可高效捕獲X射線(xiàn),并將之轉(zhuǎn)化為針對(duì)您的應(yīng)用而優(yōu)化的X射線(xiàn)束。

薄膜和涂層薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒別、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),著重對(duì)厚度在nm和?m之間的層狀材料進(jìn)行特性分析,從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜等。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線(xiàn)反射高分辨率X射線(xiàn)衍射倒易空間掃描,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶(hù)還是專(zhuān)業(yè)用戶(hù),都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。D8D在金屬樣品檢測(cè)中,殘余奧氏體、殘余應(yīng)力和織構(gòu)檢測(cè)是其中小部分,目的在于確保產(chǎn)品完成復(fù)合用戶(hù)需求。

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),著重對(duì)厚度在nm和?m之間的層狀材料進(jìn)行特性分析(從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜)。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線(xiàn)反射法高分辨率X射線(xiàn)衍射倒易空間掃描由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物??装搴统练e樣品在反射和透射中的高通量篩選。上海GaN檢測(cè)分析

UMC樣品臺(tái)通常用于分析大塊樣品、掃描測(cè)量應(yīng)用和涂層分析,也能測(cè)量多個(gè)小樣品或用于執(zhí)行非環(huán)境實(shí)驗(yàn)。上海結(jié)構(gòu)精修檢測(cè)分析

獲得的TRIO光路簡(jiǎn)化了D8ADVANCE的操作,使之適用于多種應(yīng)用和樣品類(lèi)型。為便于用戶(hù)使用,該系統(tǒng)提供了自動(dòng)化電動(dòng)切換功能,可在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù),即可在三個(gè)光路之間切換:用于粉末分析的Bragg-Brentano聚焦幾何用于毛細(xì)管、GID和XRR的平行光束Kα1,2幾何用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何它非常適合在環(huán)境條件或非環(huán)境條件下對(duì)所有樣品類(lèi)型進(jìn)行分析,其中包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)。上海結(jié)構(gòu)精修檢測(cè)分析

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